均質– 分散     
分散是一相(液體、固體、氣體)進入到另一互不相溶的連續相(通常液體)的過程。當外部能量輸入時，兩種物料重組成為均一相。當其中一種或者多種材料的細度達到微米數量級時，體系可被認為膠狀，我們將它分為三種：懸浮液（固/液），乳液（液體/液體）和泡沫（氣體/液體）。
       相比于傳統的混合分散方法，高剪切乳化分散機能輸入更大的能量。
      下面是IKN高剪切乳化分散機的應用:
       霜類，膏類和洗劑類：
       霜類，膏類和洗劑類包括很多種類的產品，但是加工方式卻很相似。工藝中一般都會包含增粘劑，色素，香料和活性劑與油相或水相的分散和親和作用。然后，油相和水相乳化、冷卻并包裝成品。對于生產廠商來講，粉體與水怎樣才能進行*大程度上的親和（通常很難分散），并產生乳化作用，保持乳液的穩定性，是其中一項較大的挑戰。使用IKN的乳化分散機，就可以幫您解決這些問題。
      

霜類、膏類和洗劑類    香料、防腐劑、香精、牙膏    果汁、濃縮液、果肉和飲料    墨水和油漆    濃縮味素    調味料、調味汁    軟干酪    果醬    涂層    種子和芥末

       較難加工的材料可以用EDL剪切泵或者EDC分散機實現連續或半連續工藝，在批次式加工方式中，可配合EDS型號機器使用。更難均質的材料可以用ER或ERS實現在線或間歇式加工。
    
懸浮– 濕磨（固體-液體）
懸浮是指將固體顆粒分散到液體中。在分散過程中，往往需要減小固體顆粒，這就是濕磨。用高剪切乳化機輸入大量能量，可實現我們的目的。以下是一些典型應用，IKN混合分散機在這些應用中提供了*好的方案：
        炭黑                     水晶
       二氧化鈦              催化劑
       種子                    硫磺
       磨光劑                 灰漿
       粘土                    金屬氧化物
       石墨   
        使用EDC高能分散機或EDL剪切泵，可以在線方式制成懸浮液，用ER來實現批次式或在線式流程。濕磨的應用廣泛，但與懸浮相比，它需要更高的能量輸入。為實現高能量輸入，IKN為您提供了EDL2000單級高剪切乳化機, ER2000多級高剪切乳化機,ERS2000超高速乳化機，CM2000膠體磨和CMO2000錐體磨。

 
乳化（液體-液體）
乳化是將兩種互不相容的液體均勻分散的過程，如水包油乳液。懸浮液中固體顆粒之所以沒有沉淀，是因為顆粒尺寸小于1微米。如要制成穩定的乳液，需要輸入能量以減小液滴尺寸。以下是常見乳液的舉例：
    

人造黃油                       石蠟    冰淇淋                          化妝品    蛋白質提取                    礦物油    膏霜類和洗劑                 殺蟲劑和除草劑    色拉醬和調味醬               上光蠟    微膠囊

 
很多乳液可以通過使用合適的機器很容易的實現，如使用在線式高能量分散機或剪切泵，間歇式EDC。當液滴要求小于10微米或要求在亞微米范圍時，我們需要更高的能量輸入來使粒徑達到要求范圍。如果濃度較高，IKN為您提供如下的設備：EDL2000單級高剪切乳化分散機，ER2000三級高剪切乳化分散機，ERS2000超高速乳化分散機，CM2000膠體磨。 EDC系列可用于間歇式加工。
 
 溶解– 分子/膠質
       以下是典型的溶解方面的應用，IKN可以提供*好的解決方案：
       染料
       結晶粉
       粘合劑
       人造橡膠
       觸変劑
       多數溶解過程都可使用如下的機器，如在線式高能量分散機或剪切泵，間歇式乳化機。
   較難溶解的材料需選用高能量輸入的機器。另外，為了增加能量輸入、減少循環時間，IKN還提供EDL2000，ER2000，ERS2000，CM2000等在線機器。 

粉體-液體 混合
   將粉體與液體混合，是非常具有挑戰性的工作。粉體較難被濕化，如果分散不好，會產生魚眼。通常情
   況下，粉體都是從頂部傾倒入罐體，產生大量飛揚粉塵，具有潛在的健康危害。噴射器、攪拌機等其他輔助
   設備也會因此而降低功效，甚至使阻塞情況更加嚴重，同時還加大了清洗難度。IKN開發出全新的技術解決
   方案，可以取代過時工藝。與其他混合機廠商相比，IKN可以提供成套粉體/液體生產線。以下是一些常見
   的典型應用，IKN混合機為您提供*好的解決方案。

淀粉    氣相二氧化硅    奶粉    糖    纖維素    卡波姆

二氧化硅                               卡波姆

       卡波姆^®(卡波姆^®是Noveon公司的注冊商標)作為*常用的碳水化合物之一，是化妝品的一種成分，用于
   化妝品的增粘、懸浮、穩定和乳化。卡波姆^®密度很低，易產生飛揚粉塵，如果沒有給它高能量的攪拌,就很
   容易漂浮在液體表面。溶解在液體中,它又比較容易結塊或產生魚眼。產品的粘度對pH值十分敏感。因此,需要
  加入pH調節劑(高pH物質)，來調節成品粘度。IKN公司提供一系列的高剪切分散機，為化妝品廠家提供解決
  方案。
           IKN高剪切乳化機用于水性卡波姆加工的優點：
   1.  更容易與液體混合。IKN提供多樣化的設計，批次或在線加工方式，適合卡波姆分散。PLD和PLC粉液混合
機可以將粉體直接加入到液體系統，去除粉塵或空氣。
   2.  產品均一。IKN的高剪切乳化機的定/轉子結構可以保證*終產品無結塊。
   3.  減少人員使用。IKN工業設備與其他廠商設備不同的是，不會對成分非常敏感。IKN也可以為客戶提供
       粉體喂料的成套解決方案，由控制柜統一控制。
   4.  減少原材料用量。結塊現象的消除，可以省去過濾工序，減少粉體浪費。同時，IKN定轉子分散機保證
       粉體完全濕化，精確調節pH值，避免再使用堿液調節。
       適合水化卡波姆工藝的IKN混合機：
       批次式：MK，EDC，EDS，EDE
       在線式：EDL，ER，ERS，CM，PLD，PLC 
       黃原膠
       色素
       膠質
       粘土
       當以批次方式加入粉體時，MK攪拌機很快將固體溶解和分散在容器中，如果需要更高的能量輸入，我們
   建議使用EDC分散機。若采用循環式工藝,PLD水粉混合機能夠迅速地將物料濕化并且分散。PLD 也可以用于
   連續系統,并且處理大量的物料。IKN專利產品PLC水粉混合機是連續水粉混合工藝的*佳選擇，特別是空氣量
   要求*小化，需要固定的喂料速率，或者高粘度液體的場合。PLC可以選配多種混合分散頭，能夠輸入足夠的
   能量，一次性處理*難加工的物料。PLD是行業內唯一不需要真空吸料的機器，因此，該設計的另一個目的便
  是減少空氣的介入。